近日，德國光學(xué)組件和傳感器系統(tǒng)供應(yīng)商Jenoptik斥資千萬歐元，投資了一種新的電子束（E－Beam）光刻系統(tǒng)。據(jù)悉，新的電子束系統(tǒng)將由總部位于德國業(yè)納的電子束技術(shù)專家Vistec Electron Beam GmbH公司研制，將于2022年中期在德國德累斯頓工廠投入使用。該系統(tǒng)是開發(fā)和生產(chǎn)下一代超精密傳感器的核心部件，這對進一步開發(fā)DUV和在半導(dǎo)體生產(chǎn)過程中建立高精度EUV晶片曝光至關(guān)重要。

Jenoptik表示，新的電子束光刻系統(tǒng)能在300mm大小的基底上實現(xiàn)精度約10納米的光刻（約為毛發(fā)直徑的1／ 2000）。Jenoptik把這項技術(shù)作為超精密微光學(xué)制造的主要使能器，這是其傳感器業(yè)務(wù)的功能核心。改進后的電子束光刻系統(tǒng)通過精度和靈活性的提高，為未來半導(dǎo)體曝光技術(shù)所需的傳感器奠定了技術(shù)基礎(chǔ)。

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2020年9月，Jenoptik收購了光學(xué)計量公司Trioptics 75％的股份，以期能進一步加強公司在光學(xué)和光電子領(lǐng)域的競爭力（尤其是測試和測量技術(shù)方面）。收購Trioptics后，Jenoptik預(yù)計全年收入將在7.55億到7.75億歐元之間。Jenoptik在光學(xué)、傳感器技術(shù)和精密機械領(lǐng)域擁有超過150年的專業(yè)經(jīng)驗，是全球領(lǐng)先的高質(zhì)量光學(xué)和微光學(xué)系統(tǒng)開發(fā)和生產(chǎn)合作伙伴之一，并致力于開發(fā)和引進先進的半導(dǎo)體光刻技術(shù)。

電子槍：高分辨率的熱場發(fā)射，配有高壓，電子束的能量通常在10～100KeV。
電子槍準直系統(tǒng)：對電子槍發(fā)出的電子束進行較直。
電磁透鏡：與光學(xué)透鏡類似，聚焦電子束。
消像散器：調(diào)節(jié)聚焦像散，減少誤差。
光闌：改變電子束流。